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新製品 3次元形状レーザ露光装置

2021.02.05

5軸ステージ制御による3次元形状への
マスクレスフォトリソグラフィを実現!


 

3次元形状露光
フォトリソグラフィは電子デバイスの制作など幅広く活用されていますが、一般的にウェハー等の平面基板に対して行われています。しかし、デバイスの小型化、高性能化は著しく、今までの平面に対するフォトリソグラフィでは不十分な状況が増えてきており、3次元構造に対するフォトリソグラフィの実現が期待されてきました。
本装置は5軸ステージを制御することで様々な3次元形状に対して任意のパターンを露光することが可能であり、次世代の製品を見据えた研究開発に活用することができます。


 


【特徴】

5軸ステージ(直進3軸、回転2軸)構成により様々な形状へ微細パターニングが可能

半導体レーザによる直接露光を行いますので、メタルマスクが不要 研究・開発の
時間短縮、予算低減へ貢献

専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込可能

アライメント補助機のにより、容易な立体構造サンプルの位置合わせが可能

 
 
【露光例】

3次元形状露光
R=15mmの球面へのロゴパターンの露光
(レジスト OFPR-800LB)

 

【主な仕様】

 光源 375nm 半導体レーザ
 最小線幅 15μm (目標5μm)
 使用対物レンズ ×2 長作動対物レンズ
(×10 レンズによる対物レンズについても開発中)
 ステージ構成 XY軸: 直進 300mmストローク
Z軸: 直進 200mmストローク
Α軸: 回転 360°
Β軸: 回転 90°
 装置寸法 W1000 × H1800 × D900
 オートフォーカス 露光時:赤色レーザによる三角測量法
アライメント時:カメラ画像によるコントラスト法
 機能 位置・角度アライメント
観察機構

 

 

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