磁気光学効果測定装置
Kerrループ／磁区 同時評価装置
特長／用途
- Kerr効果によるヒステリシスループと磁区像の同時取得が行えるハイブリッド装置
- 切替機構により面内磁化材料・垂直磁化材料両方の測定に対応
- 対物レンズ倍率、レーザ光源波長、印加磁場応相談
※テスト測定／観察を承ります。
概要／仕様
| 測定方向 | 面内／垂直方向 |
|---|---|
| 使用光源 | 半導体レーザ／白色光源 ※レーザ波長応相談 |
| 空間分解能 | <Φ2μｍ ※50倍対物レンズ使用時 |
| 最大印加磁場 | 10kOe（1T） ※20kOe等、他の印加磁場応相談 |
面内／垂直同時Kerrループ測定装置
特長／用途
- 対称2方向入射光学系による面内成分と垂直成分の分離評価を行う特殊装置
- 斜め入射Kerr効果を利用した面内／垂直方向の磁化成分の同時測定
概要／仕様
| 測定方向 | 面内／垂直方向 |
|---|---|
| 使用光源 | 半導体レーザ ※波長応相談 |
| 空間分解能 | φ3μm |
| 最大印加磁場 | 2kOe（0.2T）～ （面内・垂直一体型電磁石） |
ハードディスク裏打ち層評価装置
特長／用途
- ハードディスク記録層が成膜された面内裏打ち層を対象とした評価装置
- 縦Kerr効果により面内磁化試料のヒステリシスループを測定
- ディスク試料のマッピング評価対応
概要／仕様
| 測定方向 | 面内方向 |
|---|---|
| 使用光源 | 半導体レーザ |
| 空間分解能 | φ1mm |
| 最大印加磁場 | 2kOe（0.2T）～ |
μKerrループ測定装置
特長／用途
- パターン磁性膜等を対象としたミクロンオーダの局所評価を行うヒステリシスループ測定装置
- 切替機構により面内方向・垂直方向の測定に対応が可能
- 大気中にて簡便な操作のみ、短時間で磁気光学特性を評価
- マッピング測定・電動ステージオプション有
※テスト測定を承ります。
概要／仕様
| 測定方向 | 面内／垂直方向 （手動切り替え） |
|---|---|
| 使用光源 | 半導体レーザ ※波長応相談 |
| 空間分解能 | <Φ2μm （※×50対物レンズ、垂直評価時） ※他の倍率応相談 |
| 最大印加磁場 | 垂直15kOe（1.5T）、面内10kOe ※20kOe等、他の印加磁場応相談 |
ハードディスク垂直磁気記録層評価装置
特長／用途
- 極Kerr効果によりハードディスク垂直磁気記録層のヒステリシスループを測定する評価装置
- ディスク試料のマッピング評価対応
- 熱アシスト磁気記録媒体の評価 応相談
概要／仕様
| 測定方向 | 垂直方向 |
|---|---|
| 使用光源 | 半導体レーザ ※波長応相談 |
| 空間分解能 | φ1mm |
| 最大印加磁場 | 20kOe（2T） |
ウェハ対応垂直磁気特性評価装置
特長／用途
- 垂直磁気積層膜等を測定
- ウェハ試料のマッピング評価に対応した大型装置
概要／仕様
| 測定対象 | ウェハ上の垂直磁性材料 （最大12インチ）（MTJ膜等） |
|---|---|
| 使用光源 | 半導体レーザ ※波長応相談 |
| 空間分解能 | Φ1mm |
| 最大印加磁場 | 20kOe（2T）～ |
ウェハ対応面内磁気特性評価装置
特長／用途
- 面内方向の回転磁場を用いることにより短時間で面内磁気特性・スキュー角を評価可能
- ウェハ試料のマッピング評価対応
概要／仕様
| 測定対象 | ウェハ上の面内磁性材料 （最大12インチ）（磁気センサ用膜等） |
|---|---|
| 使用光源 | 半導体レーザ ※波長応相談 |
| 空間分解能 | φ1mm |
| 最大印加磁場 | 20kOe（0.2T）～ |
分光Kerr／Faraday効果測定装置
特長／用途
- 白色光を利用して磁気光学効果の波長依存性（スペクトル）を評価する分光型測定装置
- マルチチャンネル分光器を用いた方式により高速測定を実現（スペクトル測定時間5分以下）
- ヒステリシスループの波長依存性を測定可能
概要／仕様
| 評価波長範囲 | 350～900nm （900～1700㎚対応可能） ※Faraday効果の単波長評価応相談 |
|---|---|
| 空間分解能 | Φ5mm |
| 最大印加磁場 | 10kOe~ |
各種電磁石
特長／用途
- 長年の制作実績を反映させた磁場シミュレーションによる検討を踏まえ、多種多様な形態の電磁石の提案が可能（お気軽にご相談下さい。）
- 顕微鏡用局所・高磁場出力／プローバ対応／応力対応／真空チャンバ対応／面内／垂直、空芯／2極／4極、空冷／水冷など様々な検討・製作実績あり
