マスクレス露光装置

ステージには脱着可能なピンを用意しました。基板サイズに合わせて配置を変更できます。さらに専用の基板ストッパをご利用いただくことも可能です。専用ストッパはお客様自身でご用意いただくか、弊社までご相談ください。

以前よりご評価いただいていた直観的な操作性はそのままに、ユーザインターフェイスの見直しを行いました。さらにスムーズな操作が可能となっています。

また、「オートフォーカス」、「ネガポジ反転」、「観察画像の明るさ調整」といった、利用頻度の高い機能をトップ画面に配置し、露光作業中のクリック動作を削減しています。

サブミクロンを求める高精度な露光を行うためには、装置の高性能化だけではなくユーザの熟練が不可欠です。

一方で、工学分野以外の研究者や、これから研究を始める学生にとって、装置の習熟は大きなハードルになりがちです。

PALETはフォトリソグラフィに不慣れな人でも露光作業に迷わない、直感的な操作性を実現しています。写真を印刷するように、任意のパターンを露光することができます。もちろんPALETでも、数ミクロン程度の細いパターンを露光することは可能です。

PALETには露光作業をアシストする各種機能が盛り込まれていますので、安心してご利用ください。

デバイス作製に必須の重ね合わせ露光をセミオートで行うことができます（電動ステージモデル）。基板表面と露光パターンの両方を目視できるため、マスクアライナ等で経験のある方はもちろん、初めての方でも操作に迷うことはありません。

またデジタルデバイスの特長を活かし、露光パターンの反転や非表示をすることで、より正確な位置合わせが可能です。

各種カスタマイズや特注仕様も承ります。
詳しくはハードウェアをご覧ください。